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[科技界] 崔义

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  • TA的每日心情
    开心
    1 小时前
  • 发表于 2020-8-25 14:56:25 | 显示全部楼层 |阅读模式
    姓 名:+ h+ a) l0 D3 }4 [3 C0 J  L1 }
    崔义       
    5 L. h2 X) l$ g8 T0 u2 l' d" N性    别:! [# D6 `' R; u1 Z; R

    " U5 E# p0 q4 P$ r* M+ y) k职 务:
    ! G- S9 k# D6 A2 y' t& b职    称:
      l: Z0 B5 a  k/ X5 u研究员8 }" e7 B1 P* \# `) W* ~. i
    学 历:2 J# Z% l. c- P$ L6 S/ t! a: c* k/ c
    博士研究生          F& R1 c$ W  V& l
    通讯地址:
    ) |7 u; I. y+ s苏州工业园区若水路398号
    ; v5 e) y% G. X5 g# G电 话:
    $ j% Q; N5 }$ l$ u- v0512-62872582       
    " X& \' O" g; v- \邮政编码:
      m- Y1 F8 d3 w, q. }: R1 n3 A7 J$ b215123
    8 k* Z" y+ ~3 K' R, z% F传 真:  u# H5 e2 |( Q" O# a0 x/ Y: H
    电子邮件:
    2 @( A7 C/ |; m0 Z, bycui2015@sinano.ac.cn
    ' E8 g8 F" O! f6 U; h
    . J6 @" j8 C, b6 n# W& D/ Z- f0 b简历:2 V, ~; y: Y. g; _. t
      2005年获得大连理工大学化工学院学士学位,2011年获得中科院大连化物所博士学位,师从包信和院士。同年前往德国柏林马普学会弗里兹-哈伯研究所(Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft) 从事博士后研究工作,期间于2012年至2013年获得洪堡奖学金支持。2015年8月正式加入中科院苏州纳米所,受聘为研究员。目前正在参与筹建纳米真空互联实验站 (NANO-X),主要负责在纳米能源与表面催化系统展开相关科研工作。4 k; C8 n/ U/ @% g. z! x5 O
    ( R4 q8 {8 I) y# t
      主要成果:2 u( k( i( ~! U7 g. e8 ~* N2 {
    ) D* _. h( @* L- U  Z" M1 D0 C
      长期从事模型催化体系的表面物理化学研究,博士期间主要利用一套多功能纳米探针系统(STM/PEEM/XPS/UPS/HREELS)对石墨烯在不同金属基体上的外延生长模式与机制以及与基体之间的化学作用机制进行了系统的研究,博士后工作期间,科研工作围绕氧化物单晶薄膜的物理化学性质展开,并将掺杂概念应用到模型催化研究中,利用低温STM/STS,红外反射光谱IRAS,X射线/同步辐射光电子能谱等表面科学工具对掺杂效应进行了系统的研究。已在国际学术期刊杂志上发表SCI收录的学术论文近30篇,其中以第一作者/通讯作者在Angew. Chem. Int. Ed., Phys. Rev. Lett., Phys. Rev. B, Chem. Commun., Phys. Chem. Chem. Phys., Nano Res.等期刊上发表文章12篇。发表文章情况详见:http://www.researcherid.com/rid/G-2609-2012
    . l/ ~6 S& e3 j0 p
    / {1 N# k( V* s! h- g1 o* J# B! S1 Q& G3 t
    研究领域:8 N8 ?& r- P$ m
      利用现代表面科学研究方法,通过原位构建模型催化体系,对现代化工能源领域内关键的催化反应机理进行研究;通过原位生长氧化物,III-V族化合物,研究其物化性质与光电特性的关联;从微观尺度上研究二维材料的生长机理、缺陷形成机制、表面化学性质及其对材料光电性能的影响。, c, D. {" Z( W& C9 ~; L$ ~
    . d; Q$ Q1 t! U- j# [" a
      目前研究手段主要有分子束外延生长(MBE)、近常压X射线光电子能谱(NAP-XPS)、近常压扫描隧道显微镜(NAP-STM)、光发射电子显微镜(PEEM)和红外近场光学显微镜(IR-SNOM)。7 I( ^2 q5 N+ V% O8 y+ m
    ! p9 ?8 K% L0 @! o# l. |+ o
      招生方向:氧化物、二维材料等薄膜材料的制备表征;模型催化体系的表界面研究4 n% _! j( t- Q1 h, M. X
    ! v- g: o. F. _  m: R! s
    . j* e8 c" f  E  p
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